美国开发出低温钻石薄膜

美国先进钻石技术公司专家开发出一种新方法，可以在较低温度下给电子设备涂上一层钻石薄膜，让更多电子设备未来都穿上超强品质的钻石“外衣”。相关论文发表在美国物理学会(AIP)期刊《应用物理快报》上。

钻石由于其硬度、光学透明度、光洁度、耐化学药品、辐射和电场等方面卓越性质，在工业和高科技装置上具有特殊价值。研究人员将钻石用在电子设备上时，把半导体硼引入钻石制造过程，通过“掺杂”使其能导电。但过去，利用掺杂钻石涂层或薄膜赋予电子设备钻石般的品质，还面临很大挑战，因为掺杂钻石涂层在应用时要求很高温度，而生物传感器、半导体、光子和光学设备等灵敏度较高的电子设备遇到高温会被破坏。

在论文中，美国伊利诺斯州先进钻石技术公司报道，他们造出了一种硼掺杂钻石薄膜，能在低温下(460℃到600℃)给许多电子设备穿上钻石“外衣”。

低温沉淀硼掺杂钻石薄膜的概念已不新鲜。但在实际应用中，尚未发现品质优良又能迅速制造用于商业化用途的钻石薄膜。研究小组通过降低温度，并调整通常工艺中甲烷和氢气的比例，改变了原来硼掺杂所需正常温度，也能生产出高质量薄膜，在导电性或光洁度方面跟高温生产的钻石薄膜没多大区别。

研究人员说，他们还需要更多数据进一步研究，以更好地掌握低温环境。利用进一步优化的方法，有望在低于400℃的温度下沉淀硼掺杂钻石薄膜。先进钻石技术公司的曾宏君(音译)说：“沉淀温度越低，就能在越多的电子设备上应用。在厚度、光洁度、导电性等方面也将进一步拓宽钻石涂层的生产种类。”